教員紹介
プロフィール
氏名：河合 孝純 （かわい たかずみ：Takazumi Kawai）
所属・役職：デザイン・データ科学部・教授／教育開発機構 数理データサイエンス教育センター・センター長
専門分野：物性物理学、密度汎関数法、炭素系高機能材料、原子スケール材料開発・分析、データサイエンス、時系列データ分析
1995年東京理科大学理学部物理学科卒業。1997年同大学院理学研究科物理学専攻修士課程修了。同年独 立行政法人日本学術振興会特別研究員DC1採用、2年で同大学院博士過程修了。1999年より日本電気株式 会社(NEC)にポスドクとして採用され、一般財団法人ファインセラミックスセンターフロンティアカーボンテクノ ロジー研究本部に出向、2003年よりNEC基礎研究所に勤務。2020年より東京都市大学大学院総合理工学研 究科情報専攻教授。2023年同デザイン・データ科学部デザイン・データ科学科教授、教育開発機構 数理・ データサイエンス教育センター センター長。2000年に公益財団法人 井上科学振興財団 井上研究奨励賞受賞。
職歴
| 2023年4月 | – | 現在 | 東京都市大学, デザイン･データ科学部 デザイン･データ科学科, 教授 |
| 2020年4月 | – | 2023年3月 | 東京都市大学, 大学院総合理工学研究科 情報専攻, 教授 |
| 2017年4月 | – | 2020年3月 | 日本電気株式会社, セキュリティ研究所, 主任研究員 |
| 2014年4月 | – | 2017年3月 | 日本電気株式会社, 情報・ナレッジ研究所, 主任研究員 |
| 2012年4月 | – | 2014年3月 | 日本電気株式会社, スマートエネルギー研究所, 主任研究員 |
| 2003年4月 | – | 2012年3月 | 日本電気株式会社, 基礎研究所, 主任 |
| 1999年4月 | – | 2003年6月 | 一般財団法人ファインセラミックスセンター, フロンティアカーボンテクノロジー研究本部 |
| 1997年4月 | – | 1999年3月 | 独立行政法人日本学術振興会, 特別研究員 DC1 |
学歴
| 1997年4月 | – | 1999年3月 | 東京理科大学, 理学研究科, 物理学専攻 |
| 1995年4月 | – | 1997年3月 | 東京理科大学, 理学研究科, 物理学専攻 |
| 1991年4月 | – | 1995年3月 | 東京理科大学, 理学部第一部, 物理学科 |
受賞
| 2023年 | 優秀教育賞, データサイエンス教育の全学展開と講義資料の一般公開, 東京都市大学 |
| 2000年 | 井上研究奨励賞, 公益財団法人 井上科学振興財団 |
担当科目
| 2023年4月 | – | 現在 | データサイエンス概論 | 東京都市大学 |
| 2021年4月 | – | 現在 | データサイエンスリテラシー（2） | 東京都市大学 |
| 2020年4月 | – | 現在 | データサイエンスリテラシー（１） | 東京都市大学 |
| 2020年1月 | – | 2020年1月 | 物性理論特講Ⅱ 「データサイエンス基礎」 | 筑波大学 |
共同研究・競争的資金等の研究課題
| リチウムのグラファイトインターカレーションにおける固液界面反応の物理 日本学術振興会 科学研究費助成事業 基盤研究(C) 基盤研究(C) 2014年4月 – 2017年3月 河合 孝純, 岡田 晋 |
| 強電界による表面動力学の制御に関する第一原理電子論 日本学術振興会 科学研究費助成事業 特別研究員奨励費 特別研究員奨励費 1998年 – 1998年 河合 孝純 |
産業財産権
| 特許第6954448号 異常検知装置、異常検知方法およびプログラム 佐藤 静香, 河合 孝純 |
| 特許第6904418号 情報処理装置、情報処理システム、情報処理方法、及び、プログラム 佐藤 静香, 河合 孝純 |
| 特許第6856139号 指標算出装置、指標算出方法、及び、指標算出プログラム 河合 孝純 |
| 特許第6774636号 異常分析方法、プログラムおよびシステム 河合 孝純 |
| 特許第6743394号 要因分析装置、方法およびプログラム 河合 孝純, 落合 勝博 |
| 特許第6737277号 製造プロセス分析装置、製造プロセス分析方法、及び、製造プロセス分析プログラム 河合 孝純, 落合 勝博 |
| WO2020-110201 情報処理装置 河合 孝純 |
| WO2017-022234 製造プロセス分析装置、製造プロセス分析方法、及び、製造プロセス分析プログラムが格納された記録媒体 河合 孝純, 落合 勝博 |
| 特開2014-216125 グラファイト系電極活物質、電極および蓄電池 河合 孝純, 深津 公良 |
| 特許第5007513号 カーボンナノチューブの精製方法及び精製装置 河合 孝純, 宮本 良之 |
| 特開2012-096968 グラフェン基板の製造方法およびグラフェン基板 河合 孝純 |
| 特許第4904696号 電界効果トランジスタおよびその製造方法 河合 孝純, 宮本 良之 |
| 特開2011-113797 導電性細線、これを用いたデバイス、および導電性細線の形成方法 河合 孝純, 宮本 良之 |
| 特開2010-283009 スイッチング方法及びスイッチングデバイス 河合 孝純 |
| 特開2010-110676 分子吸着特性の制御方法 河合 孝純, 宮本 良之 |
| 特開2009-214195 薄膜形成方法および薄膜形成装置 河合 孝純, 宮本 良之 |
| 特開2009-184873 グラファイト薄膜の形成方法 河合 孝純 |
| WO2008-010383 アームチェア型カーボンナノチューブの選択的精製方法 河合 孝純, 宮本 良之 |
| 特開2006-027945 カーボンナノチューブの選別方法 河合 孝純, 宮本 良之 |
| WO2004-103903 ナノサイズ炭素系材料立体構造体とその製造方法 宮本 良之, 河合 孝純 |
| 特開2003-095626 ナノチューブ製造方法 宮本 良之, 河合 孝純 |