実験装置は、ナノエレクトロニクス研究センター内に設置しています。当研究室で使用しているセンター共同設備を含めて紹介します。

クリーンルームと準クリーンルーム

ナノエレクトロニクス研究センターにある500m2を超えるクリーンルームと準クリーンルームに研究設備を設置しています。

顕微PL装置

光学顕微鏡と組み合わせたPL装置です。近赤外領域のPL光を分光し測定することができます。 クライオスタットと組み合わせることで20~300Kの温度範囲で測定が可能です。

可視光分光装置

光学顕微鏡と組み合わせた可視光分光装置です。ラマン分光測定、PL測定などが行えます。パルスレーザーとフォトマルを組み合わせることで、サブナノ秒の時間分解測定が可能です。

マスクレス露光装置

金属顕微鏡とLED光源DLPプロジェクタを組み合わせた露光装置です。フォトマスク無しで任意の形状で数マイクロメートルサイズのパターン加工ができます。

RIE装置

被エッチング材とエッチングガスとの化学反応で薄膜を除去する装置です。リソグラフィでパターン加工されたレジスト膜を用いることで、任意の形状に薄膜を微細加工できます。

熱酸化炉

シリコン基板上に熱酸化膜を形成することができます。ウェット・ドライのどちらの方法でも酸化することができます

金属蒸着装置

抵抗加熱式の蒸着装置です。光・電子素子の電極形成に用います。  

プローブステーション

半導体パラメータアナライザと組み合わせることで、電気的特性を測定することができます。

レーザー顕微鏡

光学顕微鏡としても使用できるキーエンス製のレーザー顕微鏡です。二次元結晶材料の結晶構造観察などに使用します。

原子間力顕微鏡

薄膜材料の表面ラフネスや、二次元結晶材料の膜厚測定などに用いています。

ワイヤーボンダー

作製した半導体素子とパッケージを金線で接続する装置です。

この他に共有装置として、固体ソースMBE装置、スパッタ装置、CVD装置、化学的機械研磨装置、高速熱処理装置、真空熱処理装置、ホール測定装置、X線回折装置、分光エリプソメトリなど様々な装置があります。