お知らせ

第76回応用物理学会秋季学術講演

第76回応用物理学会秋季学術講演会(名古屋国際会議場)にて、荒井君、加藤さん、橋本君が発表しました。

荒井 仁(修士2年)「AR-XPSによる4H-SiC (0001)の初期酸化過程の解明」

加藤まどか(修士1年)「Si(110)基板上SiGe膜の歪み緩和におけるイオン注入の効果」

橋本 秀明(修士1年) 「GOIマイクロディスクにおけるHigh-Q値共振フォトルミネセンス」

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