修士1年の此島さんが第18回結晶成長国際会議で発表を行いました。
(The 18th International Conference on Crystal Growth and Epitaxy)
「Fabrication of uniaxially strained Ge by selective ion implantation technique」
Shiori Konoshima, Eiske Yonekura, Kentarou Sawano


ナノエレクトロニクス研究室 澤野研究室