第18回結晶成長国際会議
修士1年の此島さんが第18回結晶成長国際会議で発表を行いました。(The 18th International Conference on Crystal Growth and Epitaxy)「Fabrication of uniaxially strained Ge by se
ナノエレクトロニクス研究室 澤野研究室
修士1年の此島さんが第18回結晶成長国際会議で発表を行いました。(The 18th International Conference on Crystal Growth and Epitaxy)「Fabrication of uniaxially strained Ge by se
日本経済新聞にGOI基板開発の研究成果が掲載されました。「2016年5月30日付 日本経済新聞」
修士2年の矢島君、松尾君、渡邊君、修士1年の松下君、佐藤君、学部4年の久保田君が応用物理学会で発表を行いました。「SiGeストップ層を用いた歪みGe-On-Insulator構造の形成技術開発」矢島 佑樹、澤野 憲太郎「貼り合わせ法による一軸性歪みSiGe-on-Insul
修士1年の橋本秀明君が、三島で開催された「第21回電子デバイス界面テクノロジー研究会」にて、 「Enhanced Light Emission from Surface-Passivated Tensile-Strained Ge-on-Insulator」というタイトルで口頭発表を行い、見事「服
毎年恒例、B3の歓迎会を兼ねた「ワイン会」を総合研究所で開催しました。
日本経済新聞電子版に、Ge発光デバイスの研究成果が掲載されました。「2015年8月20日付 日経産業新聞」
第76回応用物理学会秋季学術講演会(名古屋国際会議場)にて、荒井君、加藤さん、橋本君が発表しました。荒井 仁(修士2年)「AR-XPSによる4H-SiC (0001)の初期酸化過程の解明」加藤まどか(修士1年)「Si(110)基板上SiGe膜の歪み緩和におけるイオン注入の効果」
福島県郡山市にて研究室合宿を行いました。英論紹介や白木先生によるご講演などを行いました。福島再生可能エネルギー研究所(FREA)の見学を行いました。レクリエーションとしてフットサルを行いました。